Dibujo nivel básico

Marcela Moncada Lomeña

Danilo Espinoza Guerra

Profesor Titular, Escuela de Arte UC, Licenciado en Arte UC, artista visual, Doctor en Bellas Artes, Universidad Politécnica de Valencia, España, especialista en dibujo y análisis de obra. Se desempeñó como jefe de investigación en Escuela de Arte UC, ha realizado numerosas exposiciones individuales y colectivas en Chile y el extranjero.

Taller de ejecución fundamentalmente basado en la comprensión y dominio de elementos básicos de representación gráfica y estructuración de la forma observada.

El curso entrega conocimientos, información y técnicas vinculadas a la observación y resolución de problemas gráficos asociados a representar –en un nivel inicial- formas y espacio, estructura, textura, valor tonal y nociones básicas de perspectiva, mediante recursos lineales y uso de la luz y la sombra.

Se ofrece un particular aprovechamiento de sus temas, para comprender y resolver problemas de estructura, textura y representación bidimensional del espacio tridimensional, en la ejecución de obras de pintura, escultura, grabado, acuarela o diseño.

El curso se desarrolla con clases presenciales con trabajo de aplicación práctica de taller, aprendizaje colaborativo, análisis de casos y retroalimentación periódica.

*Los materiales que se utilizarán durante el curso deben ser proporcionados por el o la estudiante.

Sin requisitos.

Objetivos de Aprendizaje General

Resolver problemas de representación del espacio mediante dibujos lineales y uso de luz y sombra.

Objetivos de Aprendizajes Específicos

• Reconocer a través de la visualización y registro gráfico, la estructura fundamental que conforma un objeto.
• Dibujar objetos a partir de sus estructuras básicas: estructura, forma y espacio a través de los valores tonales: textura, luz y sombra.
• Dominar el uso de técnicas básicas para avanzar en el desarrollo de la expresión personal en dibujos libres.

• Clases presenciales
• Aplicación práctica en trabajo de taller
• Análisis de casos
• Retroalimentación periódica.

• Uso de la superficie de trabajo.
• Proporción en los objetos: sus medidas.
• La estructura, nociones de perspectiva: espacio bidimensional y espacio tridimensional.
• La elipse, proyección de la circunferencia en el plano bidimensional.
• Dibujo de modelos compuestos.
• Estudios de luz y sombra, valorización del dibujo.

El curso será evaluado a través de las siguientes estrategias:

• En forma continua, mediante la entrega de tareas al inicio de cada clase, las que no serán calificadas.

Contará con dos calificaciones individuales:

• Ejercicio práctico en la mitad del curso: 50%
• Ejercicio práctico al finalizar el curso: 50%

Los alumnos deberán ser aprobados por uno o ambos de los siguientes criterios que establezca la unidad académica:

• Nota 4.0 o superior
• Asistencia mínima del 75%

El alumno que no cumpla con estas exigencias reprueba automáticamente sin posibilidad de ningún tipo de certificación.

Los resultados de las evaluaciones serán expresados en notas, en escala de 1,0 a 7,0 con un decimal, sin perjuicio que la Unidad pueda aplicar otra escala adicional.

Los alumnos que aprueben las exigencias del programa recibirán un certificado de aprobación digital otorgado por la Pontificia Universidad Católica de Chile y una insignia digital.

Las personas interesadas deberán completar la ficha de postulación que se encuentra al costado derecho de esta página web y enviar los siguientes documentos al momento de la postulación o de manera posterior a la coordinación a cargo:  

• Fotocopia simple del carnet de identidad por ambos lados.

Con el objetivo de brindar las condiciones y asistencia adecuadas, invitamos a personas con discapacidad física, motriz, sensorial (visual o auditiva) u otra, a dar aviso de esto durante el proceso de postulación.

El postular no asegura el cupo, una vez inscrito o aceptado en el programa se debe pagar el valor completo de la actividad para estar matriculado.

No se tramitarán postulaciones incompletas.

Puedes revisar aquí más información importante sobre el proceso de admisión y matrícula